Sputtertechnik:
Hochwertige PVD-Beschichtungen für Forschung und Industrie
Im Bereich Oberflächentechnik stehen zwei selbst aufgebaute Sputteranlagen zur Verfügung. Beide Anlagen sind mit rotier- und heizbaren Substrathalteraufnahmen von 4“ Durchmesser zum Beschichten planarer Bauteile ausgerüstet. Komplexere 3D-Bauteile auf Anfrage!
Anlagenparameter:
- DC-Ansteuerungen mit bis zu 1kW Leistungseintrag
- R.f. Sputtern auf Anfrage
- Reaktives und nicht reaktives Sputtern möglich
- Substrattemperaturen bis ca. 700 °C
- Flansch und Ansteuerung zur Probenheizung und –rotation von Createc GmbH
- vorhandene Targets: Ag, Al, Al2O3, Au, Ca, Ca10(OH)2(PO4)6, CaSO4, Cr, C, Cu, CuZn39Pb2 (Messing), Fe, ITO, MO, Nb, NiCr20, Si, SiO2 (SQ1), Si3N4, Sn, Ta, Ti, TiO2, W, V, Zn, ZnSe, Zr
