Anwendungsbeispiele:

Abbildung von hochvakuumstabilen

• • Metalloberflächen
  • Kunstoffoberflächen
  • Keramik- und Glasoberflächen,
  • Pulvern
  • biologischen Proben
  • Schliffoberflächen
  • Abbildung nichtleitfähiger Oberflächen nach Beschichtung mit Kohlenstoff oder Metallen bzw. bei sehr geringen Anregungsenergien

Gerätekonfiguration:

• Elektronenquelle: Schottky-Feldemitter
• Detektoren zur Abbildung von Materialkontrast und Topographiekontrast
• Auflösung bis zu 0,7 nm (probenabhängig)
• Präparationstechnik für nichtleitfähige Oberflächen:
• Hochvakuum-Bedampfungsanlage für Kohlenstoff-Bedampfung,
• Hockvakuum-Sputteranlage für Gold oder Platin,
• Präparationstechnik Kritisch-Punkt-Trocknung (für biologische Proben und wasserhaltige Proben)

Hersteller: Carl Zeiss Microscopy Deutschland GmbH

Typ: GeminiSEM 460 (2023)