Spektralellipsometer SE850:
Präzise Analyse dünner Schichten und Schichtstapel
Anwendungsbeispiele:
- Charakterisierung dünner Schichten auf glatten Oberflächen
- Vermessung von Mischoxid-Schichten oder Schichtstapeln (z.B. SiO2-TiO2-SiO2-TiO2…)
- Beobachtung von strukturellen Veränderungen in Schichten durch äußere Einflüsse (z.B. Tempern)
Gerätekonfiguration:
- Spektralellipsometer SE850
- Wellenlängenbereich: 350 – 2300 nm
- step scan analysator Messprinzip
- Simultanmessung im UV-Vis und NIR-Bereich
- Mikrospot-Option mit Fokusdurchmesser von ca. 200µm
- Software: SpectraRay II
- Bestimmung der optischen Eigenschaften (Schichtdicken, Brechungsindizes, Absorptionskoeffizienten) von Schichten bzw. Schichtstapeln
- Vielzahl von Modellen zur Simulation der Messdaten
- Bestimmung von Rauhigkeiten oder Grenzflächen (Effective Medium Approximation)
- Gradienten des Brechungsindex (linear, exponentiell, Gauß)
