Die Plasmapolymerisation unter Vakuumbedingungen ist eine etablierte Methode zur Dünnschichtabscheidung. Bei Innovent steht ein System zur Plasmabeschichtung (Plasma Technology UK Ltd.) planarer Werkstücke (bis ca. 20 cm Durchmesser) zur Verfügung. Die Anlage ist gekennzeichnet durch eine kapazitive Elektrodenanordnung mit einer 13,56 MHz-Hochspannungsversorgung und dient hauptsächlich zur Herstellung dünner Siliziumdioxid-Schichten.