Rasterkraftmikroskopie (AFM):
Hochpräzise Oberflächencharakterisierung im Nanobereich

Anwendungsbeispiele:

• Untersuchung der Oberflächentopografie  auf Oberflächen (2D und 3D Darstellungen)
• Charakterisierung von Oberflächen z.B. :
  • Rauheiten
  • Partikelverteilung (Histogramm)
  • Reibwiderstand
  • Effektive Oberfläche
• physikalische Kennwerte z.B. :
  • Elastizität
  • Magnetismus
  • elektrische Leitfähigkeit

weitere Modi auf Anfrage

Gerätekonfiguration:

• Max. Messfläche: 90 x90 µm²
• Max. Linien pro Messung: 4096 x 4096
• Max. Probendurchmesser: 80 mm
• Max. Probenhöhe: 30 mm

Zusatzanbau NanoRack:

Messungen unter Zug- oder Druckbeanspruchung an Monofilamenten, Drähten und Folien

• Probengröße (L x B x H): 41 mm (min.) x 12 mm (max.) x 6 mm (max.)
• Maximaler Bewegungsbereich: 110 mm (30mm entspannt bis 147 mm voll gestreckt)
• Max. Belastung: 80 N