VUV-Anlagen

Das Funktionsprinzip des Excimer – Excited Dimer, ist die Anregung eines metastabilen Zustands zur Bildung eines Edelgasmoleküls bei dessen Zerfall Licht einer spezifischen Wellenlänge emittiert wird.
Das Betriebsgas unserer Anlage ist Xenon. Mit der von der Anlage emittierten Wellenlänge von 172 nm können nahezu alle organischen Verbindungen gespalten werden, was diese Bestrahlungsmethode interessant für viele Anwendungen der Oberflächenreinigung und -aktivierung macht.

Die in unserer Anlage verbauten Quecksilber-Niederdruck-Amalgamstrahler (NIQ) emittieren ein Spektrum mit Hauptlinien bei 185 und 245 nm. Bei Wellenlängen unter 200 nm kann Licht Sauerstoff zu Ozon umwandeln.
Diese reaktiven Sauerstoffspezies sind in der Lage, zusammen mit der emittierten Strahlung, Oberflächen von Kunststoffen zu reinigen und Bindungen an Polymerketten zu spalten. Der Arbeitsabstand kann hierbei, im Gegensatz zur 172 nm Excimer Lampe freier variiert werden, was auch die Behandlung von nicht ebenen Werkstücken möglich macht.

Im Gegensatz zu den im Haus vorhandenen Lampen sendet der Excimerlaser kohärentes Licht, einer Wellenlänge aus. Der bei INNOVENT verwendete UV Laser ist ein gepulster ArF (argon fluoride) Laser von ATL. Er kann mit variabler Pulsfrequenz betrieben werden und besitzt drei zuschaltbare Optiken mit denen ein breiter Fluenzbereich eingestellt werden kann. Er ergänzt somit die im Haus befindlichen Möglichkeiten zur VUV Bestrahlung technischer Oberflächen.