Der Prozess der remote - Combustion Chemical Vapour Deposition nutzt im Gegensatz zur CCVD einen anderen Reaktionsmechanismus aus. Hydrolytische Reaktionen sind dafür verantwortlich, dass Precursoren, die mittels Combustion-CVD nicht oder nur schwer umsetzbar sind, als haftfeste Schichten auf diversen Substraten appliziert werden können. So ist es mit dieser Methode z. B. möglich, photokatalytisch aktive Schichten auf Titandioxidbasis herzustellen.

Eine Kombination von r-CCVD und Standard-CCVD ist möglich, um auf diese Weise Kompositschichten zu erzeugen, z. B. SiOx mit eingelagerten TiO2-Nanopartikeln

Anwendungsgebiete

• Abscheidung von Schichten auf Basis von Titandioxid (photokatalytisch aktive Schichten)
• Kompositschichten