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INNOVENT erhält Förderung für modernes Präparationslabor zur Optimierung von YIG-Schichten und MO-Sensoren

INNOVENT e.V. freut sich über die Bewilligung einer Förderung durch die Thüringer Aufbaubank im Rahmen der Richtlinie FTI-Thüringen INVEST. Mit dieser Unterstützung wird ein modernes Präparationslabor eingerichtet, das die Präparation von Substraten für die epitaktische Züchtung von Yttrium-Eisen-Granat (YIG)-Schichten und magnetooptischen (MO)-Sensoren erheblich verbessern wird.

Innovative Technologie für höchste Präzision

Das neue Labor wird mit fortschrittlicher Technik ausgestattet, darunter ein Atmosphärendruckplasma-System, Präzisionssägen und eine Reinstwasser-Aufbereitung. Diese Investitionen ermöglichen eine effiziente und hochpräzise Vorbereitung der Substrate, was zu besseren Schichteigenschaften und höherer Materialausbeute führt. Besonders hervorzuheben ist das Dual Frequency Plasma Jet-System, das durch seine doppelte Dielektrisch-behinderte-Entladung (DDBD) und niedrige Plasmatemperatur (<40°C) eine besonders schonende und flexible Vorbehandlung der Substrate gewährleistet.

 

Breites Anwendungsspektrum und wirtschaftliche Relevanz

Die neuen Technologien tragen dazu bei, die industrielle Relevanz von YIG-Schichten und MO-Sensoren zu erhöhen. Diese Materialien sind in verschiedenen Bereichen wie der Luftfahrtindustrie, der Qualitätskontrolle und Forensik von großer Bedeutung. Durch die verbesserte Präparation können neue Anwendungsfelder erschlossen und bestehende Verfahren weiter optimiert werden. Zudem trägt die Investition zur Schonung von Ressourcen und zur Reduktion von Chemikalieneinsätzen bei, was positive Auswirkungen auf die CO2-Bilanz hat.

 

Synergien und Zukunftsperspektiven

Das neue Präparationslabor eröffnet auch Synergien zu weiteren Forschungsfeldern, wie der Plasmamedizin und der Entwicklung neuer Dünnschichten. Die niedrige Plasmatemperatur ermöglicht die Aktivierung temperatursensibler Materialien, während die Möglichkeit zur Einbringung chemischer Precursoren neue Oberflächeneigenschaften ermöglicht.