News

News

von und um Innovent

Publikation zur Untersuchung der Grenzflächenstruktur von amorphen SiO2–Schichten auf Glasoberflächen mittels Molekulardynamik-Simulation

Aufgestellt wurde das Gerät durch die Physical Electronics GmbH aus Feldkirchen bei München.

Am 18.06.2024 wurden nun von Innovent die mit der Computertomographie in einem Jahr gesammelten Erfahrungen auf dem 20. Firmenjubiläum der Physical Electronics GmbH vor einem internationalen Publikum präsentiert.

Vorgestellt wurden Ergebnisse an Proben aus der Elektronik, der Materialforschung (Metalle, Glas, Polymer), der Archäologie sowie Live Science.

Die Computertomographie ist eine „Volumen-Methode“. Sie ermöglicht, im Unterschied zu den Methoden der Oberflächenanalytik auch in das Innere einer Proben zu „sehen“.

So ist es z.B. möglich, verborgene Strukturen wie innere Hohlräume, Hinterschneidungen, Poren, Lunker, Blasen, Mikrorisse, Einschlüsse oder eine Textur nachzuweisen.

Sie ermöglicht einen Soll-Ist-Vergleich von Maßen und Fertigungstoleranzen, aber auch dynamische Messungen unter Zug- oder Druckbelastung oder beim Aufheizen oder Abkühlen.

 

Das Gerät bei Innovent ist ein guter Kompromiss zwischen Probengröße und Auflösung.

Einerseits können relativ große Proben bis 70 cm Höhe, z.B. ein Schwert als archäologischer Fund, gemessen werden, andererseits ist eine relativ hohe Auflösung (Voxelsize <1µm) möglich, wie sie für die Untersuchung von Schaltkreisen nötig ist.

 

Gerne können Sie uns ansprechen, wenn Ihnen vielleicht CT-Messungen bei der Lösung Ihrer Probleme weiterhelfen können.

In unserem CT-Applikationslabor können wir auch Testmessungen für günstige Konditionen durchführen, wenn erst geklärt werden muss, ob die Computertomographie für Ihre Proben geeignet ist.

 

Wir danken dem BMBF für die Förderung des Geräts (Förderkennzeichen: 03WIR07IL1) und der Physical Electronics GmbH für Aufbau und Service.

Für die hier gezeigten Testproben bedanken wir uns bei der Matesy GmbH und dem Leibniz-IPHT Jena.

 

Wissenschaftliche Ansprechpartner:

INNOVENT e. V. Technologieentwicklung Jena

 

Computertomographie:

Dr. Frank Froehlich

E-Mail: f.froehlich@innovent-jena.de

 

Dr. Ralf Linke

E-Mail: r.linke@innovent-jena.de

 

 

PARTNER:

 

Physical Electronics GmbH www.phi-gmbh.eu

 

Matesy GmbH matesy.de/de/

 

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.

Kompetenzzentrum für optische Spezialfasern

https://www.leibniz-ipht.de/en/departments/competence-center-for-special-fiber-optics/

 

INNOVENT präsentiert im Folgenden einige CT-Abbildungen aus ausgewählten Beispielen aus der Elektronik, Glas, Polymer und Live Science:

 

Die Beschichtung unterschiedlichster Oberflächen mit flammenpyrolytischen Verfahren als Variante der Chemischen Gasphasenbeschichtung (CCVD – Combustion Chemical Vapour Deposition) ist ein wichtiger Forschungs- und Entwicklungsschwerpunkt bei INNOVENT. Besondere Bedeutung hat dabei die Abscheidung amorpher Siliziumdioxid-Schichten für verschiedene Anwendungs-zwecke mit dem Pyrosil®-Verfahren. Mit diesem Verfahren können insbesondere Glasoberflächen großflächig mit transparenten und optisch fehlerfreien SiO2-Beschichtungen versehen werden. Diese werden unter anderem erfolgreich als Diffusionsbarriere zum Schutz vor Glaskorrosion oder zur Verhinderung unerwünschter Kontamination von Funktionsschichten auf Glassubstraten eingesetzt.

Die Wirksamkeit derartiger Barriereschichten beruht auf der effizienten Unterdrückung der Diffusion von Alkali-Ionen (insbesondere Na-Ionen) aus dem Substratglas. Ungeachtet der Vielzahl praktischer Anwendungen war bisher das theoretische Verständnis für die hohe Wirksamkeit von amorphen SiO2-Schichten als Duffusionsbarriere begrenzt. Den Schlüssel für ein vertieftes Verständnis der Barrierewirkung liefern Untersuchungen der Mikrostruktur der Grenzfläche Schicht-Glas. In der jetzt veröffentlichten Molekulardynamik-Studie der Grenzfläche zwischen amorphem SiO2 und Natriumsilikatglas konnte gezeigt werden, daß die Grenzfläche eine elastische Phasengrenze darstellt, an der ein Übergang von einem flexiblen Si-O Netzwerk (Glas) zu einem steifen Si-O Netzwerk (amorphes SiO2) stattfindet. Diese signifikante Änderung der Netzwerktopologie ist mit dem steilen Na-Konzentrations-gradienten an der Grenzfläche verbunden. Aufgrund der Abhängigkeit der Diffusionskinetik von der Netzwerktopologie führt der elastische Phasenübergang an der Grenzfläche zu einer signifikanten Hemmung der Na-Diffusion aus der Glasoberfläche und erklärt die experimentell beobachtete Effektivität der SiO2-Beschichtungen als Barriereschichten. Die Studie wurde mit finanzieller Unterstützung der Thüringer Aufbaubank unter dem Förderkennzeichen 2016 WFN 0021 durchgeführt.

Der Zugang zur vollständigen Publikation Eur. Phys. J. B (2024) 97:112  ist unter dem Link:  https://doi.org/10.1140/epjb/s10051-024-00754-9 abrufbar.

Die Read-only-Version kann unter dem Link: https://rdcu.be/dPRPa eingesehen werden.