INNOVENT - Technologieentwicklung Jena


 

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r-C-CVD - Remote Combustion Chemical Vapour Deposition

Die sogenannte remote Combustion Chemical Vapour Deposition ist eine Neuentwicklung aus unserem Hause. Hierbei werden ebenfalls Flammen verwendet, um Schichtsysteme abzuscheiden. Dieses Verfahren bietet im Gegensatz zur C-CVD durch die Ausnutzung eines anderen chemischen Reaktionsmechanismus zusätzlich die Möglichkeit, weitere Schichtsysteme abzuscheiden, welche mittels C-CVD nicht oder nur schwer realisierbar sind. Als Beispiel sei hier Titandioxid genannt, das als selbstreinigende Schicht auf temperaturstabilen Substraten durch r-C-CVD in situ bereits ohne weitere Temperung abscheidbar ist.

Anwendungen
  • Photokatalytisch aktive Schichten (selbstreinigend)
  • Transmissionserhöhung / Reflexionsverminderung von transparenten Substraten
Beschichtbare Substrate
  • Glas
  • Kunststoffplatten
  • Kunststofffolien
  • Keramiken
  • Metalle
  • Stein
  • Holz
  • Textile Fasern und Gewirke/Gewebe

Kontakt                                                                                                               zurück
Herr Dr. A. Heft
Tel. 03641 282554

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