R-CCVD - Remote Combustion Chemical Vapour Deposition
Die sogenannte Remote Combustion Chemical Vapour Deposition ist eine Neuentwicklung aus unserem Hause. Hierbei werden ebenfalls Flammen verwendet, um Schichtsysteme abzuscheiden. Dieses Verfahren bietet im Gegensatz zur CCVD durch die Ausnutzung eines anderen chemischen Reaktionsmechanismus zusätzlich die Möglichkeit weitere Schichtsysteme abzuscheiden, welche mittels CCVD nicht oder nur schwer realisierbar sind. Als Beispiel sei hier Titandioxid genannt, das als selbstreinigende Schicht durch R-CCVD in situ bereits ohne weitere Temperung abscheidbar ist.
Anwendungen
- Photokatalytisch aktive Schichten (selbstreinigend)
- Transmissionserhöhung / Reflexionsverminderung von transparenten Substraten
Beschichtbare Substrate
- Glas
- Kunststoffplatten
- Kunststofffolien
- Keramiken
- Metalle
- Stein
- Holz