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ULTRAObjective Messsystem – cantileverbasiertes Rastersondenmikroskop

Das ULTRAObjective Messsystem der Firma SIS GmbH ist ein cantileverbasiertes Rastersondenmikroskop und dient zur Generierung von Oberflächenbildern und weiteren Daten wie z.B. Rauigkeit, magnetische Kraft, elektrischer Widerstand. Der zugehörige Messkopf ist wie ein gewöhnliches Objektiv in den Revolver eines Lichtmikroskops (Axioskop, ZEISS) angebracht. Diese Kombination ermöglicht eine punktgenaue Ansteuerung des gewünschten Rasterbereiches auf der Probenoberfläche.
Die verschiedenen zur Messung verfügbaren Cantileverchips, auf denen sich die entsprechenden Tastspitzen befinden, ermöglichen diverse Anwendungsbereiche, vor allem das Rasterkraftmikroskop (RKM), auch als AFM (atomic force microscope) bekannt, aber auch Ableger davon wie MFM (Magnetic Force Microscopy) oder EFM (Electrostatic Force Microscopy). Spezielle Tastspitzen ermöglichen Auflösungen kleiner als 1 nm.
Die Proben benötigen keine besondere Präparation. Die Oberflächen müssen jedoch fest, sehr sauber, staub- und fettfrei sein. Ebenso sollten die Flächen der Probe plan und parallel zum Probentisch liegen.